杭州璞璘科技（Prinano）近日通过官方微信公众号文牍，与深圳力策科技合营接纳自主研发的真空气压式纳米压印决议，竣事8英寸光芯片可规模化量产考据。

据报谈，该本事全齐绕开传统深紫外（DUV）光刻门路，将光芯片制形资本压缩至DUV决议的相配之一，为受ASML光刻机出口限度的中国芯片产业带来了新的晨曦。

这次量产打破的中枢是璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻开导，配合定制化双层压印胶材料体系与中枢工艺，通盘坐蓐历程无需使用ASML的DUV光刻机。

不同于行业主流的辊压和佳能喷墨步进式门路，该开导接纳“空气垫”式面战争压印旨趣，能将晶圆整面压力均匀性缺欠抵制在0.5%以内，残余层厚度偏差小于2nm，同期复旧硬质与柔性模板，线宽辩别率可达10nm以下。

比较辊压的线战争方法，气压式绝对措置了压印均匀性不及的问题；而对比佳能的步进式工艺，其全域一次压印的成果更合适光芯片的大规模坐蓐。

更重要的是，纳米压印本事竣事了跨范例微纳结构的一次成型。传统DUV光刻制造光芯片刻，濒临从几十纳米到数微米的复杂结构需要多谈工艺和多台开导配合，现金炸金花游戏软件而纳米压印只需将总共结构制作在归拢派模板上，一次压印即可完成复刻，大幅裁减了坐蓐周期并臆造了良率损耗。

现在，该本事已在多个光芯片规模竣事量产考据，这些光芯片平素诳骗于光通讯、传感和激光雷达规模。

不外，行业关于纳米压印本事的骨子价值仍存在平素争议。《南华早报》指出，该本事在量产规模、良率以及非光子芯片规模的适用性尚未获得充分考据。

策画机构SemiAnalysis默示，尽管纳米压印开导自己资本更低，但其骨子资本上风取决于产能、模板坐蓐、缺欠率和工艺集成水平，短期内难以替代DUV和EUV在先进逻辑芯片制造中的主导地位。璞璘科技也未走漏具体的坐蓐良率、出货量、客户订单及孤苦考据数据，其买卖化规模仍有待进一步不雅察。

这次打破也反馈出在好意思国主导的出口管理下，中国科技企业探索相反化本事门路的举座趋势。从华为近期建议的韬（τ）定律将发展要点从晶体管微缩转向系统级数据传输、先进封装和三维集成，到各种开导初创企业在细分芯片规模寻找实用的制造替代决议，国产半导体产业正在通过多条旅途打破本事阻塞。

成就于2017年的璞璘科技，独创东谈主葛海大军从纳米压印本事前驱、好意思国工程院院士周郁。2025年8月，该公司已委派中国首台半导体级纳米压印光刻开导。这次8英寸光芯片量产打破，象征着国产纳米压印本事从执行室走向产业化诳骗的重要一步。

PL-AS 半导体级真空气压式纳米压印机

12寸晶圆光芯片压印展示

纳米压印光刻本事量产激光雷达芯片展示炸金花下载官方下载大全